极紫外投影光刻技术

极紫外投影光刻技术在《科学通报》的“综合评述”栏目中，王占山等指出，极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线宽小于0．1pm集成电路的技术．近年来得到了飞速发展，备受世界各国，尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注。0．1pm线宽门电路研制成功表明，极紫外光刻技术适合与现有其它技术相匹配，适合大批量生产．是现有光刻技术的合理延续。我国在极紫外投影光刻各单元技术研究中有相当基础，荏适当资助下，完全可以发展我国自己的极紫外投影光刻技术。(摘自《中国科学报》)

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